關於舉辦tftlcd專業知識培訓的通知

1. 誰能說說液晶屏（TFT）的各個電源的（VCC VSN VSP VGH VGL VCOM RESET）信號的一些知識。

VCC：供電電源 ，這沒啥好說的；

VSN、VSP ： 液晶驅動電源， 就是可以給控制像素點透光的電容充電，一個正電壓一個負電壓，還有一種做法是只有一個正電壓叫AVDD；

VGH、VGL： 像素點上開關管的開啟關閉電壓，加在開關管的柵極上，VGH 高電平打開給像素點電容充電， VGL 負電壓 關閉開關管；

VCOM： 液晶像素點的存儲電容共用電極；

RESET： 液晶屏的重啟引腳；

(1)關於舉辦tftlcd專業知識培訓的通知擴展閱讀：

VCC：C=circuit 表示電路的意思, 即接入電路的電壓， D=device 表示器件的意思, 即器件內部的工作電壓，在普通的電子電路中，一般Vcc>Vdd ! 有些IC 同時有VCC和VDD， 這種器件帶有電壓轉換功能。 C=circuit 表示電路的意思, 即接入電路的電壓，在電子電路中，VCC是電路的供電電壓

VCC（或Vcc）是之前TTL（Transistor-Transistor-Logic，晶體管-晶體管邏輯）技術時代的遺存。TTL元件中，輸入和輸出的三極體驅動電路設計成共集電極方式。VCC（或Vcc）的意思就是共集電極上的電壓（Voltage of the Common Collector）。

2. tft lcd 的基本知識

轉別人的 回答
下面我來分別介紹一下STN LCD和TFT LCD。TFT在強光下依然可見，但其他的在中午太陽下，屏幕就看不清了
STN LCD表面上看僅僅使增加了液晶分子的扭曲角，但實際上卻遠非如此，因為增大的扭曲角，使得液晶的另一種特性呈現出來，就是前面我提到的雙折射性。外界光線入射上偏光片之後變成一束線偏振光，但是線偏振光在經過液晶分子層的時候不再僅僅是扭曲偏振方向了，而是分解為兩束光線——尋常光和非尋常光，這兩束光線在出射的時候互相干涉，從而使得STN LCD在不加電的時候總是呈現出一定的底色（比如綠色和藍色）。因此我們可以看出，STN LCD和顯示原理和TN LCD是從根本上完全不同的，它利用了液晶的雙折射性。人們為了消除STN LCD的底色想了很多辦法，最簡單的就是利用一個完全一樣，但是旋向相反的兩個STN LCD盒疊加在一起，使得互相干涉的兩束光線又互相補償回來，從而實現黑白顯示，這就是DSTN（Double STN），但是DSTN的造價太高了，於是人們想到用一層碘分子的定向扭曲來模擬一個液晶盒，這樣就用一層薄膜（位相差板）替代了一個液晶盒，從而實現黑白顯示，這種叫做FSTN（Film STN）。到目前為止，我可以說所有的黑白手機屏全部都是FSTN型。STN LCD的特點是寬視角，大容量顯示，缺點是響應速度慢，因為多路驅動的存在使得STN的對比度要比TN下降很多。
STN LCD的彩色化，就是我們所說的CSTN（Color STN）。它其實就是一個FSTN屏加上一層彩膜。用RGB三個像素點來組成一個顯示像素點。CSTN的基本顯示原理和STN完全一樣，因此它也繼承了STN LCD所有的優缺點，響應速度慢是它的致命傷。目前的部分Samsung手機使用的UFB LCD其實還是一個CSTN，只不過它在整屏的透過率上略有提高，然後利用插值計算提升至65K色，說到底還是一個普通的CSTN，UFB，只不過是Samsung的一個概念而已。目前市面上的許多彩屏手機都是CSTN，只有一些高檔的彩屏手機才使用 TFT LCD。比如GD88，N8和T108。
TFT LCD其實是TN LCD的擴展和彩色化（倒不是TFT不能做黑白，而是因為TFT的成本高，做黑白的沒有意義）。TFT的基本顯示原理和我前面介紹的TN LCD完全一樣，只是利用了旋光性，只不過它為每一個像素點設置一個開關電路來，以此做到完全的單獨的控制一個像素點。因為可以單獨控制一個像素點，因此可以將對比度提升至很高，灰度實現也更加容易，結果就是可以輕易實現更鮮艷的色彩；TFT也繼承了TN型快速響應的特性，另外，額外的LC Film也有助於提高TFT的視角范圍。高對比度，高響應，寬視角，大容量顯示，TFT幾乎可以說是目前最完美的LCD產品，因此也毫無疑問，使用TFT的手機也毫無疑問的成為了高檔手機。
還有一種TFD LCD，和TFT非常相似，只不過將場效應管變成了二極體而已，不是主流產品。順帶提一下。
總結一下，我們使用的黑白機，都是用FSTN LCD。彩屏分為CSTN（絕大多數，包括UFB）和TFT（高檔）兩種。CSTN響應速度慢，色彩不豐富，不夠飽滿，只是低檔的彩屏。TFT除了耗電量較CSTN大之外，所有性能上都超越CSTN很多，只要你銀子夠多，TFT手機肯定會讓你滿意

3. 請問，進入TFT-LCD製造業，應聘的職位是設備工程師，應該具備的基本技能是什麼，需要學習哪方面的知識

作為設備工程師首先要懂的就是一些機械,電路的基本知識,最起碼的要看懂設備的一些簡單圖紙~
另外就是有些設備會要求一些軟體能力,這個在TFT-LCD應該運用不多,都是成熟的設備,都有圖形界面的~
如之前朋友所說,Array, CELL最好是了解化學知識,畢竟接觸的化學葯劑會很多,除了工作上,對自己的保護也很有幫助
Mole的話就是機械的東西更多一些~
其實,說簡單一些,作為一個設備工程師,最重要的就是多學多看,自己再多想想,設備的工作原理什麼的弄懂了都不難,尤其現在的設備全都是備件更換,能夠找到問題出在哪裡就能夠解決了~
如果再多學一下設備的調整,根據產線產品要求調整設備,提高良率,那就是優秀工程師
第一步,保證不宕機,第二步,提高穩定性,僅此而已~

4. TFT LCD crosstalk原理（最好要附電路說明的）

Crosstalk一般為Source Line上的訊號干擾VCOM所造成，VCOM為儲存電容及液晶電容的共電極，一般發版生Crosstalk的原因為Source Line變化時不匹配，一般不同權條Source Line的極性變化為+-+-彼此交替，若正電壓變化=負電壓變化，對VCOM的影響剛好抵銷，反之若正電壓變化大於負電壓變化，則由於VCOM與Source Line上有寄生電容，因此會將VCOM上的電壓往上拉，造成儲存於液晶內的電壓差值縮小，因此輝度會有所變化，而造成水平Crosstalk。

5. TFT-LCD生產流程

TFT-LCD的製造工藝 TFT-LCD的製造工藝有以下幾部分：在TFT基板上形成TFT陣列；在彩色濾光片基板上形成彩色濾光圖案及ITO導電層；用兩塊基板形成液晶盒；安裝外圍電路、組裝背光源等的模塊組裝。 1. 在TFT基板上形成TFT陣列的工藝 現已實現產業化的TFT類型包括：非晶硅TFT（a-Si TFT）、多晶硅TFT（p-Si TFT）、單晶硅TFT(c-Si TFT)幾種。目前使用最多的仍是a-Si TFT。 a-Si TFT的製造工藝是先在硼硅玻璃基板上濺射柵極材料膜，經掩膜曝光、顯影、干法蝕刻後形成柵極布線圖案。一般掩膜曝光用步進曝光機。第二步是用PECVD法進行連續成膜，形成SiNx膜、非摻雜a-Si膜，摻磷n+a-Si膜。然後再進行掩膜曝光及干法蝕刻形成TFT部分的a-Si圖案。第三步是用濺射成膜法形成透明電極（ITO膜），再經掩膜曝光及濕法蝕刻形成顯示電極圖案。第四步柵極端部絕緣膜的接觸孔圖案形成則是使用掩膜曝光及干法蝕刻法。第五步是將AL等進行濺射成膜，用掩膜曝光、蝕刻形成TFT的源極、漏極以及信號線圖案。最後用PECVD法形成保護絕緣膜，再用掩膜曝光及干法蝕刻進行絕緣膜的蝕刻成形，(該保護膜用於對柵極以及信號線電極端部和顯示電極的保護)。至此，整個工藝流程完成。 TFT陣列工藝是TFT-LCD製造工藝的關鍵,也是設備投資最多的部分。整個工藝要求在很高的凈化條件（例如10級）下進行。 2. 在彩色濾光片（CF）基板上形成彩色濾光圖案的工藝 彩色濾光片著色部分的形成方法有染料法、顏料分散法、印刷法、電解沉積法、噴墨法。目前以顏料分散法為主。 顏料分散法的第一步是將顆粒均勻的微細顏料（平均粒徑小於0.1μm）(R、G、B三色)分散在透明感光樹脂中。然後將它們依次用塗敷、曝光、顯影工藝方法，依次形成R. G. B三色圖案。在製造中使用光蝕刻技術，所用裝置主要是塗敷、曝光、顯影裝置。 為了防止漏光，在RGB三色交界處一般都要加黑矩陣（BM）。以往多用濺射法形成單層金屬鉻膜，現在也有改用金屬鉻和氧化鉻復合型的BM膜或樹脂混合碳的樹脂型BM。 此外，還需要在BM上製做一層保護膜及形成IT0電極,由於帶有彩色濾光片的基板是作為液晶屏的前基板與帶有TFT的後基板一起構成液晶盒。所以必須關注好定位問題，使彩色濾光片的各單元與TFT基板各像素相對應。 3. 液晶盒的制備工藝 首先是在上下基板表面分別塗敷聚醯亞胺膜並通過摩擦工藝，形成可誘導分子按要求排列的取向膜。之後在TFT陣列基板周邊布好密封膠材料，並在基板上噴灑襯墊。同時在CF基板的透明電極末端塗布銀漿。然後將兩塊基板對位粘接，使CF圖案與TFT像素圖案一一對正，再經熱處理使密封材料固化。在印刷密封材料時，需留下注入口，以便抽真空灌注液晶。 近年來,隨著技術進步和基板尺寸的不斷加大,在盒的製做工藝上也有很大的改進,比較有代表性的是灌晶方式的改變,從原來的成盒後灌注改為ODF法,即灌晶與成盒同步進行。另外.墊襯方式也不再採用傳統的噴灑法,而是直接在陣列上用光刻法製作。 4. 外圍電路、組裝背光源等的模塊組裝工藝 在液晶盒製作工藝完成後，在面板上需要安裝外圍驅動電路，再在兩塊基板表面貼上偏振片。如果是透射型LCD.還要安裝背光源。

6. TFT-LCD的全稱是什麼

TN Twisted Nematic 扭曲向列。液晶分子的扭曲取向偏轉90° STN Super Twisted Nematic 超級扭曲向列專。約屬180~270°扭曲向列 FSTN Formulated Super Twisted Nematic 格式化超級扭曲向列。一層光程補償片加於STN，用於單色顯示 TFT Thin Film Transistor 薄膜晶體管

7. 誰有有關TFT-LCD VCOM/VGH/VGL的相關知識

Thin Film Transistor 薄膜場效應晶體管，是指液晶顯示器上的每一液晶象素點都是由集成在其後的薄膜晶體管來驅動。從而可以做到高速度高亮度高對比度顯示屏膜信息。TFT屬於有源矩陣液晶顯示器。
TFT（Thin Film Transistor）即薄膜場效應晶體管，屬於有源矩陣液晶顯示器中的一種。它可以「主動地」對屏幕上的各個獨立的像素進行控制，這樣可以大大提高反應時間。一般TFT的反應時間比較快，約80毫秒，而且可視角度大，一般可達到130度左右，主要運用在高端產品。所謂薄膜場效應晶體管，是指液晶顯示器上的每一液晶象素點都是由集成在其後的薄膜晶體管來驅動。從而可以做到高速度、高亮度、高對比度顯示屏幕信息。TFT屬於有源矩陣液晶顯示器，在技術上採用了「主動式矩陣」的方式來驅動，方法是利用薄膜技術所作成的電晶體電極，利用掃描的方法「主動拉」控制任意一個顯示點的開與關，光源照射時先通過下偏光板向上透出，藉助液晶分子傳導光線，通過遮光和透光來達到顯示的目的。

TFT-LCD液晶顯示屏是薄膜晶體管型液晶顯示屏，也就是「真彩」(TFT)。TFT液晶為每個像素都設有一個半導體開關，每個像素都可以通過點脈沖直接控制，因而每個節點都相對獨立，並可以連續控制，不僅提高了顯示屏的反應速度，同時可以精確控制顯示色階，所以TFT液晶的色彩更真。TFT液晶顯示屏的特點是亮度好、對比度高、層次感強、顏色鮮艷，但也存在著比較耗電和成本較高的不足。TFT液晶技術加快了手機彩屏的發展。新一代的彩屏手機中很多都支持65536色顯示，有的甚至支持16萬色顯示，這時TFT的高對比度，色彩豐富的優勢就非常重要了。

TFT型的液晶顯示器主要的構成包括：螢光管、導光板、偏光板、濾光板、玻璃基板、配向膜、液晶材料、薄模式晶體管等等。

8. TFT LCD領域什麼是AA區的外圍空間

整個LCD玻璃的大小為外型尺寸(OD. Outline Dimension)
其中有設置顯示點的區域為AA (Active Area)
OD區域扣除AA區域就是外圍空間

9. 關於TFT-LCD常黑和常白的相關疑惑

首先，常黑常白兩種模式的LCD，他們的選用的液晶以及摩擦後的配向角內都是不同的，
第二，一般的容LCD，不論常黑還是常白，上下兩POL的光軸都是垂直的。
為什麼會有常黑和常白？原因在旋光效應。
TN模式的LCD，液晶電壓加在上下兩基板上，是垂直的；IPS模式的LCD，液晶電壓加在下基板上，是水平的，兩種顯示模式的不同，他們使用的液晶和液晶的初始配向也不同。
簡單的說，常白模式就是光通過下側的POL後，成為線偏振光，通過未加電壓的液晶後，發生了旋光效應，偏振方向旋轉90度，剛好與上側POL的光軸方向相同，所以當液晶不加電時，LCD是亮的，是常白模式。
常黑模式的LCD，光通過下側POL後，再經過未加電的液晶，不會發生旋光，出射後偏振方向與上側POL的吸收軸相同，無法出射，所以是常黑的。

10. TFT-LCD 4.5代線的Array ，CF和CELL的工藝流程

大體上是Array：Thin Film Photo Etch Strip Anneal C/F ：ITO BM RGB OC PS CELL：1.C/F到cleaning到PI coating到Rubbing到LC Disp 2.TFT到cleaning到PI coating到Rubbing到Seal Disp 最後1和版2進行Vacuum Alingner（真空權對核）到Cutting到CELL Test到Mole